電容薄膜規(guī)的應(yīng)情況介紹

電容薄膜規(guī)要求高的應(yīng)用條件下，而快速的壓強(qiáng)測(cè)量

1、用于刻蝕，CVD,PVD,ALD半導(dǎo)體設(shè)備制造，如太陽(yáng)能光伏行業(yè)的PECVD用的很多，刻蝕上一般用陶瓷型的CDG025D-X3比較多，抗污染性能比較好。一般國(guó)內(nèi)用的PECVD還有多晶爐上用的MKS的電容薄膜規(guī)622A/626A/627D和INFICON的CDG025D比較多，如德國(guó)Ruth&Rau公司的PECVD設(shè)備標(biāo)配產(chǎn)品為MKS的626B13TDE和627D01TDC1B,質(zhì)量流量計(jì)用的是1179BX23CR14VSPC1 800sccm/SiH4和1179BX5CR14NSPC1  2000sccm/NH3，國(guó)內(nèi)用的好多PECVD設(shè)備上用的是INFICON的CDG025D。

2、資料貯存和顯示器制造設(shè)備

3、工業(yè)真空設(shè)備

4、常用高精度真空測(cè)量